仪器介绍

Plasma 3000 ICP电感耦合等离子体发射光谱仪ICP-OES可广泛适用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。

Plasma 3000 ICP电感耦合等离子体发射光谱仪ICP-OES具有垂直火炬，双向观测，冷锥消除尾焰，具有更宽的动态线性范围和更低的背景。

固态射频发生器，高效稳定，体积小巧，匹配速度快，确保Plasma 3000 ICP光谱仪高精度运行及优异的长期稳定性。

高速面阵 CCD 采集技术，单次曝光获取全部谱线信息，Plasma 3000 ICP光谱仪真正实现“全谱直读"。

功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程。应用工程师为ICP光谱仪用户量身打造简洁、舒适的操作体验。

技术参数

Plasma 3000 ICP光谱仪分析性能

检 出 限：亚 ppb- ppb 短期稳定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L）
长期稳定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光源：固态射频发生器，功率连续 1 瓦可调 震荡频率：27.12MHz

输出功率：500W-1600W 功率稳定性：< 0.1% 

仪器规格：尺寸：宽 x 深 x 高（2650px x 1675px x 1875px） 重  量：约 180kg

光学系统：分析谱线范围：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm 光室恒温：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024；单像素面积：24μm x 24μm 

实验室湿度环境：相对湿度 20%~80% 氩气纯度：不小于 99.995%

排  风：不小于 400 立方米 / 小时

电  源：200V~240V AC 单相；50Hz~60Hz；4kVA

仪器特点

分光系统

Plasma 3000 ICP光谱仪采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。 优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。

光源

固态射频发生器，高效稳定，体积小巧，效率高，匹配速度快，钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试，均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术，降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。

简洁的炬管安装定位设计，快速定位，精确的位置重现。 实时监控仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，保障通讯高效可靠。

进样系统

简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，精确的位置重现。钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪配备系列经过优化的进样系统，可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸（HF） 等样品的测试。

使用可拆卸式或一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。

检测器

大面积背照式CCD检测器,全谱段响应，高紫外量子化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范 围和极快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。Plasma 3000 ICP光谱仪具有大靶面尺寸，百万级像素，单像素面积24μm X 24μm，三级半导体制冷,制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。

软件系统

人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。

丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。

安全防护

电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗